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大尺寸臺式熱原子層沉積系統 ALD 安瑞克(ANRIC)技術公司開發的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反應，即依次將前驅體引入到基底上，每次循環形成一層原子級薄膜。這種精確的控制使得能夠沉積出無缺陷且可重復的超薄薄膜，從光滑表面到復雜的三維結構(如溝槽、多孔材料、纖維、膜和納米管)都能實現。
更新時間：2025-09-25
產品型號：AT-LT
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市面上最小的ALD，可放進手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統 兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。
更新時間：2025-09-25產品型號：AT 200M瀏覽量：1535
當前位置：
電鏡樣品制備
